光學鏡片清洗用超純水設備
發(fā)布日期：2011-5-5 閱覽數(shù)：1803次
光學鏡片清洗用超純水設備
光學鏡片清洗用超純水設備詳細介紹：
光學鏡片在制作過程中表面會粘付一些溶劑、藥水等需要進行清洗，為了保證鏡面的潔凈度防止烘干后產生水痕，需要電導率0.1μs/cm2的純水進行漂洗。一般采用反滲透＋混床及反滲透＋EDI鏡片清洗用高純水系統(tǒng)，
光學鏡片清洗工藝包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。
因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗；也有先進行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。
利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
影響漂洗效果的因素有以下幾個：
洗劑的漂清性能，漂洗水的純度、溫度以及流動性等。一般在常溫下，電導率為0.1μs/cm2的純水可以保證漂洗的要求。
經過漂洗后的鏡片表面的潔凈度應和漂洗水潔凈度一致。
常用的處理工藝為反滲透＋混床，或反滲透＋ＥＤＩ（電去離子法）使產品水水質能達到0.1μs/cm２,相比之下，后者成本相對高些。
以下分別對這兩種工藝進行介紹
反滲透+混床制取鏡片清洗用高純水
反滲透＋混床高純水系統(tǒng)的產水電阻率達到1-15兆姆25℃,采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃，應用領域十分廣泛。
反滲透加混床高純水系統(tǒng)是利用反滲透系統(tǒng)除去水中95-97%以上的離子雜質,再用后級混床精處理,除去水中剩余離子,產水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的完美結合,有著設備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點.反滲透ROReverse Osmosis反滲透技術是利用壓力差為動力的膜分離過濾技術,源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究,后逐漸轉化為民用,目前已廣泛運用于科研醫(yī)藥食品飲料海水淡化等領域.
（RO）反滲透膜孔徑小至納米級，在一定的壓力下,H2O分子可以通過RO膜,而源水中的無機鹽重金屬離子有機物膠體細菌病毒等雜質無法通過RO膜,從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區(qū)分開來.
混床是混合離子交換柱的簡稱,是針對離子交換技術所設計的設備.所謂混床,就是把一定比例的陽陰離子交換樹脂混合裝填于同一交換裝置中,對流體中的離子進行交換脫除.由于陽樹脂的比重比陰樹脂大,所以在混床內陰樹脂在上陽樹脂在下.一般陽陰樹脂裝填的比例為1：2,也有裝填比例為1：1.5的,可按不同離子交換樹脂酌情考慮選擇.混床也分為體內同步再生式混床和體外再生式混床.同步再生式混床在運行及整個再生過程均在混床內進行,再生時樹脂不移出設備以外,且陽陰樹脂同時再生,因此所需附屬設備少,操作簡便,具有以下優(yōu)點：
(1) 出水水質優(yōu)良,出水pH值接近中性.
(2) 出水水質穩(wěn)定,短時間運行條件變化如進水水質或組分、運行流速等對混床出水水質影響不大.
(3) 間斷運行對出水水質的影響小,恢復到停運前水質所需的時間比較短.
用作水處理生產的系列反滲透加混床高純水設備充份考慮工作環(huán)境、使用等多方面因素采用專業(yè)反滲透設計軟件進行設計制造，關鍵設備采用進口產品，工藝先進，質量可靠，可擴展性強，結構合理占地小，水利用率高，能耗低，操作維護簡單。
反滲透＋ＥＤＩ制取鏡片清洗用高純水
采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取高純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮母呒兯苽涔に�，其基本工藝流程為：源水（箱）→原水泵→機械過濾器→活性炭過濾器→軟化器（根據水的硬度來選用）→精密過濾器→一級反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
這種方法用來制取高純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取高純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
粵茂水處理生產的反滲透純水設備可滿足光學鏡片（玻璃）清洗用純水生產需求，但由于每個地方原水水質的不同，且產水水量大小不同，以上僅作一個參考，具體情況我們可以按您的需求為您設計合適的方案。
